2000℃真空烧结炉

该2000℃真空烧结炉采用石墨加热，加热温度可达2000℃。

2000℃真空烧结炉可在同一炉体内实现真空、脱脂、预烧结，生产工序一次性完成，较好的提升生产效率和产品质量。可实施在氩气、氮气和还原性气分保护下低压力烧结，减少元素挥发损失。

主要应用领域：

1、硬质合金、CIM、MIM等可进行脱蜡，脱气，烧结及连续处理。
2、非氧化物系列陶瓷，氮化硅，碳化硅，可进行脱蜡，脱气，烧结及连续处理。
3、石墨，脱气，提纯的连续处理。

二、产品特点

1、根据炉温高低和工艺要求，采用石墨发热体及隔热屏。发热体可分成多区布置；各区独立控温，可编程PID调节温度准确均匀。

2、采用石墨加热元件、石墨毡隔热层，设计温度可达2200℃，加热温度均匀性高，寿命长。

3、充气流量控制，炉内压力控制装置，实现微负恒压烧结，抑制金属挥发损失，改善产品致密性及质量。

4、具有安全互锁、故障诊断和异常报警等功能。

三、技术参数

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