热门关键词: 立式真空烧结炉 2400℃立式真空烧结炉 310S离心风机叶 二硫化钼CVD气相沉积管式炉 沉积系统 小型管式气氛炉 管式气氛炉
真空烧结炉主要为高等院校,科研院所等单位的实验室,提供温度高温达2400℃的具有真空、可控气氛的试验环境,对碳化硅、陶瓷、硬质合金、金属粉末等进行成型烧结、脱气处理,以获得高致密度的产品。
二硫化钼CVD气相沉积管式炉为小型二硫化钼CVD气相沉积系统 ..
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二硫化钼CVD气相沉积系统基本组成部分包括气源、反应室、加热系统、载气系统、真空系统和尾气处理系统。 CVD-MOS2,即化学气相沉积法制备的二硫化钼(Molybd..
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该款高温箱式马弗炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构,双层炉壳间配有风冷循环系统和30段程序控温,K型热电偶测温,炉膛采用氧化铝微晶体纤维材料,温..
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1200度小型管式气氛炉..
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1200度开启式管式气氛炉为开启式管式电炉..
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