设备用途：

该1200度真空脱脂烧结炉主要应用于粉末冶金，陶瓷金属化，透明陶瓷，氮化硅半导体等行业气氛/真空脱脂烧结，包括铜，钨，钛合金等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结，回火及退火工艺。

结构特点：

1、采用双壳体设计      

2、内胆采用高温合金满焊内胆，严格抛光处理，光洁度优于△6。                        
3、炉门采用双层门设计，内高温门+外密封门，密封圈密封，水冷保护，保证密封性的同时，操作更加便捷。                        

主要技术参数：