1200℃低真空CVD石墨烯生长系统

1200℃低真空CVD石墨烯生长系统为实验室用小型小型真空CVD石墨烯生长系统。

此款小型真空CVD石墨烯生长系统可用于生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验,温区可独立程序控制,设备操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。